以銅 (Cu) 濺射靶材為例.在制備銅濺射靶時(shí),不可避免地會(huì )引入硫、鉛等其他雜質(zhì)含量.微量的硫可以防止熱加工時(shí)晶粒尺寸增大或產(chǎn)生微裂紋;但當硫元素含量高于18 ppm時(shí),會(huì )出現微裂紋;隨著(zhù)兩種雜質(zhì)元素(硫和鉛)，銅靶材鍍膜濺射儀KT-Z1650PVD為臺式磁控濺射鍍膜機，儀器結構緊湊，全自動(dòng)控制，設計符合人體工程學(xué)，所得結果一致，可重復性高。

銀是一種柔軟，有光澤的元素，屬于元素周期表中的金屬過(guò)渡族。它的熔點(diǎn)為961.78℃，密度為10.49g /cm3.銀的理化性質(zhì)均較為穩定，導熱、導電性能很好，質(zhì)軟，富延展性。銀的理化性質(zhì)均較為穩定，導熱、導電性能很好，質(zhì)軟，富延展性。其反光率*，可達99%以上。銀靶材離子濺射儀KT-Z1650PVD在較短時(shí)間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜，儀器結構緊湊，全自動(dòng)控制，設計符合人體工程學(xué)。

小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD 該產(chǎn)品為臺式磁控濺射鍍膜機，能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金（Au），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）的薄膜。 在較短時(shí)間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜，

mini型磁控濺射儀KT-Z1650PVD，桌面式設計小巧卻功能齊全。觸摸屏控制功率，樣品臺0-8轉/分旋轉，自動(dòng)電動(dòng)樣品擋板等。

金屬磁控濺射儀， 外形小巧 ，功率電流大小可調，觸摸屏控制，有工藝儲存功能，外配水冷機可長(cháng)時(shí)間工作。